產(chǎn)品中心
當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 專業(yè)高溫爐系列 >
產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
相關(guān)文章ARTICLES
4“真空立式淬火爐OTF-1200X-4-VTQ是一款立式可開(kāi)啟真空管式淬火爐,配有一個(gè)密封的液體容器用于樣品淬火,樣品可從Z高溫度1200℃環(huán)境到冰水或冷油中,可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。
1700℃ 8升氫氣爐KSL-1700X-H2屬于高溫箱式爐,專門(mén)針對(duì)于材料在氫氣或惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)或退火的使用。采用氧化鋁纖維作為爐膛材料,鉬絲作為加熱元件,Z高溫度可高達(dá)1700℃,冷卻水管嵌入爐體頂部密封板中,能有效地保證工作時(shí)的冷卻需要及密封性。因此,本機(jī)是需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結(jié)材料(如鈦合金、熒光材料等)的Z佳選擇。
小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4″石英管和真空法蘭,是專為半導(dǎo)體或太陽(yáng)能電池基片(Z大3″)的退火而設(shè)計(jì)。本機(jī)采用10KW紅外燈管加熱,Z快升溫速度為 50℃/s,設(shè)有30 段溫度控制,精度為±1℃。此外,通過(guò)RS485口和控制軟件可在計(jì)算機(jī)上實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)控制和溫度曲線顯示。
4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4″石英管及高真空系統(tǒng)(機(jī)械泵+分子泵), 是專為半導(dǎo)體或太陽(yáng)能電池基片(Z大3″)的退火而設(shè)計(jì)。本機(jī)采用10KW紅外燈管加熱,Z快升溫速度為50℃/s,設(shè)有30 段溫度控制,精度為±1℃。此外,通過(guò)RS485口和控制軟件可在計(jì)算機(jī)上實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)控制和溫度曲線顯示。
可滑動(dòng)RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐,采用紅外燈加熱和移動(dòng)爐體快速冷卻,可獲得Z高升溫速率為100°C/s 、降溫速率為5°C/s。
雙管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專為在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì)的,特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機(jī)可通過(guò)滑動(dòng)爐體,實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。